반도체 전공정 ③ - 1. Photolithography 공정 - 정의(3요소, 요구사항 등), 공정 Cost, 변수(Res, DOF 등), 빛의 이해, 패턴 형성 원리 등

반도체 전공정에서 어느것이 중요하다고는 판단할 수 없지만, 가장 핵심적인 공정은 포토공정이라고 말할 수 있습니다. 포토공정은 PR이라는 물질을 이용해서 웨이퍼에 패터닝. 즉, 정보를 새겨넣는 공정을 의미합니다. 이는 현재 7nm. 5nm 등 선폭(CD)를 결정하며, 동시에 저전력 고성능의 반도체를 생산하는 아주 중요한 공정이라고 할 수 있습니다. 그래서 삼성전자, TSMC 등 파운드리업계는 몇 년전에 EUV를 최초로 도입했고, 최근에는 메모리업계에서도 적용하고 있고요. 각설하고, 포토공정의 핵심은 바로 "빛"을 이용한다는 점입니다. 포토공정의 이해와 수율을 향상으로 이어지기 위해서 빛에 의한 현상을 이해하고 이용하는 것이 중요합니다. 또한 이 빛을 이용하여 현재 포토공정의 Cost는 무엇이 있는지부터 파악하는 것도 중요합니다. "Photography란?" Photolithography는 웨이퍼 상의 회로 패턴을 구현하기 위한 방식입니다. 임의로 PR을 도포하여 빛으로 Open Are...

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