[전공 면접] 삼성전자 공정설계 / SK하이닉스 소자 직무˙전공 면접 예상 문제 ③

들어가면서 반도체 직무/전공 면접 관련해서 제가 공부했었던 반도체 소자 내용들을 함께 공유해보려고 합니다. 오늘은 SCE을 개선할 수 있는 방법에 대해 중점적으로 다뤄보겠습니다. 본 내용들은 질문의 핵심을 요약해놓았으며, 잘 이해가 안되는 내용은 단순히 외우지 말고 더 깊게 찾아보시고 본인 것으로 만들어야 합니다. 질문사항이나 문의사항은 댓글 남겨주시면 함께 공부해보겠습니다! 전공 면접 예상 문제 소자편 ③ LDD 공정이란 무엇인가요? SCE를 개선하기 위해 S/D 영역의 도핑 농도를 의도적으로 낮추는 방법입니다. 그러나 S/D 영역의 도핑을 전체적으로 낮추면 저항이 커져 소자의 특성이 더 나빠지기 때문에 게이트와 S/D 영역이 오버랩되는 부분만 농도를 낮추는 방법으로 Side Wall 공정이 추가됩니다..

원문링크 : [전공 면접] 삼성전자 공정설계 / SK하이닉스 소자 직무˙전공 면접 예상 문제 ③