반도체 평탄화 장인 : 케이씨텍(281820) - 반도체 CMP, 세정장비, Wet-station, Coater, CMP Slurry


반도체 평탄화 장인 : 케이씨텍(281820) - 반도체 CMP, 세정장비, Wet-station, Coater, CMP Slurry

※ 반도체 공정에 대해 알아보자. 1. CMP 장비·소재 국산화 수혜주! -. 케이씨텍은 2017년 케이씨로부터 인적분할로 설립되어 반도체, 디스플레이 장비 및 소재 사업 부분을 영위함. 1) 동사는 반도체 전공정 장비 및 소모성 재료의 제조 및 판매를 주력사업으로 영위하고 있음. 2) 동사는 반도체 CMP / 세정장비 / 디스플레이 Wet-station 및 Coater 장비 / 반도체 Slurry 소재등 라인업을 갖추고 있음. 3) 반도체 소자는 다수의 얇은 막이 적층되어 있으므로 정밀도를 높이기 위해서는 막이 형성될 때마다 연마제와 패드를 이용해 거친 면을 평탄화하는 공정이 필요함. 4) 이를 CMP 공정이라 하며 이 때 사용되는 연마제가 바로 CMP 슬러리임. 산화막을 평탄하게 해주는 CMP 공..


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