반도체 공정이 미세화 될 수록 PPA 효율이 좋아진다는 대전제 아래에서, 공정회사들은 수십년 동안 반도체 집적도를 2년마다 2배씩 높여왔습니다. Transistor만 있는 시스템반도체와 달리, 좀 더 공정이 복잡한 메모리 반도체의 경우, 집적발전속도가 좀 더딥니다. 왜 PIM을 해야할까? 왜 CXL을 해야할까? 왜 HBM을 해야할까?!?!?! 여기서부터 글을 시작합니다! Memory wall이란? 메모리 반도체 부분에서 발생하는 병목현상을 말합니다. Memory wall이란, 1994년에 Wulf와 McKee로 이론화 된 내용입니다. "반도체의 발전속도가 현재 추세로 지속되면, 프로세서가 작업을 빨리 끝내도 메모리에서 정체되어 전체 칩 성능 개선이 더뎌질 것이다"라고 하였는데, 그 일이 실제로 발생하고 있습니다. AI, SW에서 요구량은 기하급수적으로 요구량이 커지고, 시스템 반도체도 무어의법칙에 맞춰 성능 개선이 되고 있지만, 메모리 반도체는 성능 개선속도가 가장 느리고, 이 부분...
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