[반도체 8대공정]_Photolithography(1)

하루에 한페이지씩 완벽하게 내것으로 Photo 공정 " Photo mask에 설계된 회로 패턴의 크기와 모양을 빛과 포토 레지스트를 사용해 wafer위에 전사하는 공정 " 빛 1) shorter wavelengths of light Resolution : 구현해낼 수 있는 미세 선폭의 크기 -> resolution에는 크기와 모양이 포함된다. k1 = Process constant (여러가지 공정 조건에 의해 변하는 값) λ = wave length NA = Numerical Aperture (집광 능력을 나타내는 값) 2) Snell's Law n1sinθ1=n2sinθ2 (n1,n2= 굴절 상수) 굴절 상수가 작은 곳에서 큰곳으로 빛이 통과할 경우 안쪽으로 굴절 된다. (빛을 모으는 원리) 3) Interference (간섭) 동일 위상일 경우 : 보강 간섭 반대 위상일 경우 : 상쇄 간섭 동일 위상일 경우 C는 밝은 영역이 되고 반대 위상일 경우 C는 어두운 영역이 된다. 4)...

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