반도체 공정 31.5장(Practical Ion implantation)

이번 포스팅에서는 반도체 공정을 어떻게 진행하는지 Practical한 주제로 다뤄보려고 합니다. 하지만, 정말 오랜 시간이 지난 교재(Introduction to Microelectronic Fabrication, 2nd Ed., R. C. Jaeger)를 사용하고 있는 만큼, 현재 사용되고 있는 기술이나 방향성과 맞지 않는 부분이 있어 이번 포스팅은 서브챕터로 분류했습니다. 1. Controlling Dophant Concentration & Depth Semiconductor Manufacturing Technology by Michael Quirk and Julian Serda2001 by Prentice Hall 위 그림은 두 가지 상황에 대해 Ion gun을 조사하는 그림입니다. 우선 좌측 그림은 Low energy, Low current density로 Shallow ion implantation을 진행하는 모습입니다. 그림에서 확인할 수 있듯 Junction depth도...

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