한국표준과학연구원 국내 중소기업 장비 이용, 1나노미터 이하 정밀 측정 기준 마련 한국표준과학연구원(KRISS, 원장 박현민)이 국내 중소기업 기술로 개발한 첨단 측정 장비를 통해 1 나노미터(nm, 10억 분의 1m) 이하 반도체 산화막 두께 측정의 국제기준을 마련하는 데 성공했다. KRISS 소재융합측정연구소 표면분석팀은 국산 장비인 중에너지이온산란분광기(MEIS)를 이용, 1nm 이하 반도체 산화막의 절대 두께(다른 요소에 영향을 받지 않는 실제 두께)를 정밀하게 측정할 수 있음을 세계 최초로 확인했다. 이 기술은 국제회의에서 하프늄산화막의 기준 두께를 결정하는 방법으로 채택되는 등 국제기준으로 활용되기 시작했다. 이번 성과의 핵..........
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