플라즈마 기술과 반도체 장비


플라즈마 기술과 반도체 장비

반도체 제조 공정에서 플라즈마 기술이 적용되는 사례, 플라즈마 원리, 그리고 플라즈마 기술을 이용한 반도체 장비에 대해 알아보겠습니다. 1. 반도체 제조 공정에서의 플라즈마 기술 적용 사례 반도체 제조 공정에서는 플라즈마가 물질 표면을 처리하거나 층을 형성하는 데 사용됩니다1. 예를 들어, 반도체 원판의 표면을 광범위하게 침식시키거나, 반도체 층을 증착시키는 등의 작업에서 플라즈마가 사용됩니다1. 또한, 식각 (Etching) 과정에서는 플라즈마를 이용해 웨이퍼의 표면을 갂아내며, 전기적 특성을 입히는 과정이 박막 증착 (Thin Film Deposition) 과정입니다2. 2. 플라즈마 원리 플라즈마는 형성되는 압력과 온도 조건에 따라 그 특성이 달라져 매우 다양한 분야에 두루 활용이 가..


원문링크 : 플라즈마 기술과 반도체 장비