Deposition - CVD

저번 포스팅에 이어 이번에는 CVD에 대해 알아보도록 하자. CVD는 Chemical Vapor Deposition 의 약자로 PVD와는 다르게 화학적인 반응을 통해 막을 쌓는다. 벽면에서도 쌓이기 때문에 PVD보다 스텝커버리지 특성이 일반적으로 우수하다. Epitaxy 공정은 기판 위에서 자라나는? 공정이라고 보면 되고 CVD 공정은 증기상태로 결합한 후에 기판에 달라붙는다는 개념에서 차이가 있다고 생각하면 되겠다. CVD는 PVD와는 다르게 화학적인 반응을 통해 증착이 이루어지기 때문에 다음과 같은 조건들을 만족시켜야 한다. 1. 화학적 반응을 일으키기 위한 에너지가 공급되어야 한다. 2. 반응에 참여하고 나오는 생성물이 고체상태로 달라붙어야 한다. 3...........

Deposition - CVD에 대한 요약내용입니다.

자세한 내용은 아래에 원문링크를 확인해주시기 바랍니다.

원문링크 : Deposition - CVD