[StudyDiary18] 반도체 기초ㅣ반도체 공정_불순물 주입 공정(도핑, Doping)_열 확산법, 이온 주입법(Ion implantation)_어닐링(Anneleaing)

~20.03.10선이에요 :) 오늘은 반도체의 전기적인 성질은 부여하기 위한 불순물 주입 공정 도핑부터 어닐링까지 알아보겠습니다!-!불순물 주입 공정 (도핑, Doping)박막 증착(deposition) 이전에 반도체가 전기적인 성질을 가지게 하기 위해서 불순물을 주입(doping)하는 공정이 수반되어야 합니다순수한 반도체는 규소(Si)로 되어있어 전기가 통하지 않으나 특정 불순물을 넣어줘 전류를 흐르게 하는 전도성을 갖게 되는 것입니다도핑(Doping)의 종류 어떤 원소의 불순물을 도핑하느냐에 따라 n형 반도체와 p형 반도체로 구분할 수 있습니다N-type 반도체 : 불순물로 원자가 전자가 5개인 5가 원소(도너, donor) P, As, Sb 등을 도핑..........

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