에스앤에스텍, 차세대 EUV용 블랭크마스크 양산 앞두고 '결함' 개선에 총력

http://www.thelec.kr/news/articleView.html?idxno=15588 에스앤에스텍, 차세대 EUV용 블랭크마스크 양산 앞두고 '결함' 개선에 총력 - 전자부품 전문 미디어 디일렉 에스앤에스텍이 EUV용 블랭크마스크 대량 양산을 위한 준비작업에 속도를 내고 있다. 마스크 상의 파티클 등 결함을 개선하는 데 총력을 기울이고 있다. 이를 위해 올해 마스크 상에서 검출되는 결함 수를 크게 ... www.thelec.kr 요약) 에스엔에스텍 - EUV용 블랭크 마스크 대량 양산 준비 (2024 목표) => Mo-Si Multi Layer + 흡수체 (Ta 합금) 코팅으로 제작 => EUV 흡수도 향상 위해 High-K 마스크, 빛 변형 방지 PSM 동시 개발 - 표면 결함 / Multi Layer 검사 가능한 신규 장비 도입 + 30nm 이상 Defect 100개 이하 개선...

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