차세대 반도체 노광 공정: 캐논(cannon)이 발표한 NIL(nanoimprint lithography)이란?

Cannon의 NIL은 기존 Photo-litography에 비해 여러 가지 장점을 제공하는 유망한 차세대 노광 기술입니다. 가장 큰 장점은 가격입니다. 캐논 측에선, ASML의 EUV 장비보다 1자리 수 정도는 더 저렴할 것이라고 하네요. 아무튼 EUV가 너무 비싸고, 지금 ASML 독점체제다보니... 대안 중 하나라고 보시면 됩니다. 자세하게 알아보기 전에 노광공정의 간단한 역사부터 살펴보고 NIL에 대해서 알아보겠습니다. 반도체 칩의 진화는 "무어의 법칙"과 관련이 있습니다. 현대 반도체에서 이러한 소형화의 핵심은 광원 파장의 단축과 소형화를 지원하는 Lithography 기술의 발전이었습니다. 참고로 리쏘그래피가 노광공정입니다. 얼마나 빛을 얇게 만들어서 회로도에 그림을 그리는지! 이게 관건이에요. 지금 3nm 양산하고 있고, 2nm 공정 가고 있는데.. 빛을 이렇게 얇게 만들기가 어렵습니다. 지금 사용하고 있는 노광공정이 얼마나 발전된 시스템이냐면.. 1990년대 초, i-...

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