Photo lithography 기술의 중심 ZEISS, EUV 기술,High NA

EUV, ArF, DUV 장비의 대부분을 차지하는 ASML 노광기에서도 빛을 모아 마스크의 회로를 전달하는 중요한 역할을 하는 렌즈들은 ZEISS가 독점하고 있다는 것을 아시나요? ZEISS는 글로벌 광학 기업으로 반도체 제조에 사용되는 렌즈뿐만 아니라 일상에서 사용되는 안경 라식, 라섹에 수술에 사용되는 렌즈, 현미경과 같은 정밀 측정을 해야 하는 장비에 사용되는 렌즈 등 우리가 접하는 대부분의 렌즈들이 ZEISS에서 제조되고 있습니다. Photo 공정, 특히 EUV에 관한 지식이 필요하시다면 ZEISS 홈페이지를 활용해 보세요! ZEISS 홈페이지 사진 출처:https://www.zeiss.com/semiconductor-manufacturing-technology/home.html 홈페이지 상단의 Inspiring Technology 메뉴를 클릭하면 lithography에 관한 여러 내용들이 기술되어 있습니다. ZEISS 홈페이지 메뉴 특히 그중에서도 EUV 기술이 자세히 적혀...

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