에프에스티 EVU 공정에서 가시적인 성과 필요


에프에스티 EVU 공정에서 가시적인 성과 필요

기업 개요 (주가 : 24,300원, 시가총액 : 5,287억원) 에프에스티는 반도체 Photo Mask 보호막인 Pellicle, FPD Pellicle 및 반도체 제조장비의 온도를 조절하는 Chiller 장비 제조업을 영위하고 있다. Pellicle은 마스크(Mask) 표면을 대기중 분자나 다른 형태의 오염으로부터 보호해 주는 박막으로, 박막은 양극 산화된 알루미늄 프레임에 부착된 후 다시 레티클 위에 단단하게 부착 되어진다. Pellicle의 사용목적은 반도체 제품 수율 향상, 포토 마스크의 오염으로부터 보호, 포토마스크 수명 연장, 세정 주기 연장 및 오염원으로 부터 격리 등이 있다. 동사는 국내 유일의 펠리클 제조업체로서 내수시장에서 약 80%의 점유율을 확보하고 있다..........

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