반도체 공정 17강(Silicon dioxide & application)

Oxidation 공정에 들어가기 앞서, SiO2(Silicon Dioxide; 산화막)에 대해 간략하게 알아봅시다. 그리고 SiO2가 반도체에서 어떤 곳에서 쓰이고 있는지 알아봅시다. SILICON VLSI TECHNOLOGY, J. D. Plummer, M. D. Deal, P. B. Griffin 좌측 그림은 SiO2(Silicon Dioxide)의 원 형태인 SiO4입니다. 이 때, SiO4의 산소 2개가 각각 다른 SiO4의 산소 2개를 공유하면서 생긴 결정이 우리가 흔히 말하는 SiO2 입니다. 1. Native Oxide (Semiconductor Manufacturing Technology by Michael Quirk and Julian Serda) 2001 by Prentice Hall Native Oxide는 순수한 실리콘을 공기 중에 노출시켜뒀을 때, 자연스럽게 발생하는 산화과정에 의해 생긴 산화막입니다. 물론 공정을 설계할 때 의도하지 않은 부분이기 때문에 오...

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