반도체 공정 22장(Deal & Grove model)


반도체 공정 22장(Deal & Grove model)

앞서 산화막 생성 초기에는 산화막의 두께가 시간에 따라 Linear하게 증가하고, 이후에는 Parabolic하게 증가하는 것을 배웠습니다. 오늘은 산화막의 성장을 수치화한 모델인 Deal & Grove model에 대해 알아보겠습니다. 1. Fick's First law of diffusion Deal & Grove model을 이해하기 위해서는 먼저 Fick's First law에 대해 알아야 합니다. Fick's first law는 농도가 높은 곳에서 농도가 낮은 곳으로 입자가 이동하는 현상을 수학적으로 표현한 것입니다. Introduction to Microelectronic Fabrication, 2nd Ed., R. C. Jaeger 위 그래프에의 SiO2와 외부가 맞닿아 있는 곳은 농도가 N0로 높은데 반해 Si와의 계면에서는 Ni로 낮은 것을 알 수 있습니다. 따라서 입자는 그래프 상에서 우측으로 이동하려고 하는 Flux가 작용할 것이고, 이 Flux의 크기는 그래프의 ...


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