반도체 공정 34장(Wafer annealing & Solid-state-epitaxy)

저번 포스팅까지는 Ion implantation process가 어떻게 진행되는지, 자세한 메커니즘에 대해 학습했습니다. 이번 시간부터는 이온 주입 공정을 진행하면서 파괴된 Si 결정질이 어떻게 Annealing을 통해 회복되는지에 대해 알아보겠습니다. 1. Annealing of silicon crystal (Semiconductor Manufacturing Technology by Michael Quirk and Julian Serda) 2001 by Prentice Hall 사실 Ion implantation을 진행하기만 해서 모든 이온들이 Dophant의 역할을 하는 것은 아닙니다. Ion들이 Silicon lattice에 위치 해야만 Dophant로서 Activation되어 제 역할을 하게 됩니다. 하지만 Ion implantation을 진행할 때 Lattice에 Damage를 주고, Ion과 Silicon atom 모두 Interstitial에 있게 되죠? 따라서 특정 공...

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