반도체 공정 42장(High vacuum system & Evaporation)

번 포스팅에서는 반도체 공정을 배우면서 꼭 숙지해야할 장비인 High vacuum system에 대해 알아보겠습니다. 박막 성장을 진행할 때 CVD 공법도 자주 쓰이지만, Sputtering 공법도 정말 많이 사용한다는 것을 알고 계실 것입니다. 게다가 Sputtering 공법으로 박막을 성장시키면, 여러 층의 박막을 성장시킬 때 틈틈히 발생하는 불필요한 산화막을 Pre-sputter를 통해 제거해줄 수 있다는 장점도 있습니다. 그리고 이 Sputtering 공법에 필수적으로 필요한 장비가 High vacuum system입니다. 1. Hign vacuum system Introduction to Microelectronic Fabrication, 2nd Ed., R. C. Jaeger 위 장치는 High vacuum system입니다. Physical vapor deposition(PVD) 장치나 Sputtering 장치를 위한 가장 밑거름입니다. ① High vacuum pump...

원문링크 : 반도체 공정 42장(High vacuum system & Evaporation)