Etch - EPD(End Point Detection)

Etchging공정이 끝났을 때를 알려주는 모니터이다. 즉 공정목표에 도달하면 sytstem을 멈추는 용도1.Laser Interferometry 2.I-V monitorRF의 전압와 전류의 변화를 파악3.OES(Optical Emission Spectroscopy)방식by-product의 wavelength를 파악하여 End point를 결정한다.예를 들어 ACL etch시 O2 plasma를 사용하기 떄문에 ACL etch시 CO gas가 생성된다. 이때 CO gas의 wavelength에서 peak가 형성되다가 ACL이 감소하면서 이는 떨어질 것이다. 이때를 stop 지점으로 잡으면 just etching, 조금 시간을 지난 후를 stop 지점으로 잡으면 Over etching이 된다.**모든 원자는 각자 고유의 emission wavelength를 지닌다.Over etching을..........

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