Deposition - HDPCVD, ALD


Deposition - HDPCVD, ALD

저번 포스팅에서 내가 가장 많이 사용되는 증착방법이 PECVD라고 했는데, 조금 더 업그레이드 된 버전이 바로 HDPCVD이다. 1. HDPCVD (High Density Plasma CVD) 증착에 사용되는 플라즈마는 식각으로도 사용될 수 있는데, HDPCVD는 고밀도의 플라즈마를 이용하여 증착과 식각을 반복하는 형태이다. 주로 깊은 구멍을 메꿀때 사용한다. 왜 이런 과정을 거치냐면, 주입되는 가스가 위쪽면에 먼저 닿게 되면서, 증착물질이 위쪽에 쌓이게 되는데, 그러다보면 트렌치 내부로 들어갈 수 있는 길목이 증착물질에 의해 막히게 되어 Void와 같은 표면 결함이 발생하게 된다. 이런 현상을 막아주기 위해 식각을 통해 트렌치로 들어가는 입구를 막는 증착..........

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