Photo 공정 노광실에 들어가면 세상이 온통 노랗습니다. 제한된 파장 이외의 빛이 노출되면 패턴에 결함이 발생하기 때문입니다. 바깥보다 좀 어두워요. 1. Coating Photo 공정의 경우 크게 Coating - Expose - Develop으로 나뉩니다. 여기서 coating의 경우 spin coating으로 진행하고 3분가량 bake를 하여 PR과 함께 남아있는 solvent를 날려주고 접착력을 강화해줍니다. 스핀 코팅 장비 웨이퍼는 이렇게 생겼습니다. 앞면은 뒷면보다 더 반짝거려요 스핀 코팅 시 먼저 장비를 켜고 뚜껑을 열어 웨이퍼를 올려놓은 다음 빨간색 vacuum 버튼을 눌러 고정시켜줍니다. 그 후 PR을 3방울정도 떨어뜨려준 후 뚜껑을 덮고 초록색 start버튼을 누르면 장비가 작동합니다. step 1 10초 step 2 35초로 코팅을 진행했습니다. 2. Expose Contact aligner를 사용하여 expose를 진행합니다. mask를 사용하여 원하는 패턴을...
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원문링크 : 나노소자공정<한림대학교> 실습 후기 - 2. Photo공정
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