Clean 공정 세정공정의 경우 3일차에 진행했는데 참여를 못하게 되는 바람에...노광공정을 진행했던 웨이퍼를 세척하는 과정에 대해 간단하게 쓰겠습니다. 세정공정은 공정 사이사이에 들어가는 공정인데 particle, 불순물을 제거해주는 공정입니다. 웨이퍼를 여러 용액에 담근 후 초음파세척기에 넣어 진행하게 됩니다. 여기서는 아세톤, 메탄올, SPM을 사용합니다. SPM은 황산(H2SO4)과 과산화수소(H2O2)의 혼합액으로, 주로 식각 후에 생기는 폴리머 및 감광액 잔류물 등의 유기 불순물 및 금속 불순물을 제거하는 데 사용됩니다. H2SO4 + H2O2 -> H2SO5(Caro's Acid) + H2O 황산이 과산화수소와 반응하면 발열반응이 일어나면서 강산화제인 Caro's Acid를 생성하고, 이 Caro's Acid가 유기물을 산화시켜 제거합니다. 2CeO2 + H2O2 + 3H2SO4 -> Ce2(SO4)3 + O2 + 4H2O 금속 불순물의 경우 염의 형태로 녹여 제거합니다...
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원문링크 : 나노소자공정<한림대학교> 실습 후기 - 3. Clean, Etch 공정
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