나노소자공정<한림대학교> 실습 후기

Annealing 이온주입 후, 주입된 dopant가 실리콘과 만나 결합을 형성하기 전까지는 격자구조가 온전하지 않기 때문에 전기적 특성을 얻기 위해서 열처리를 해주어야 합니다. 따라서 furnace를 이용하여, 혹은 RTP(Rapid Time Processing, 또는 RTA로 Rapid Time Annealing이라고도 함) 공정을 통해 열처리를 해 주게 됩니다. 열처리를 통해 실리콘 격자와의 재결정화, 그리고 활성화가 될 수 있게 합니다. furnace 장비 furnace 장비 RTP 장비 RTP 장비에 웨이퍼를 넣는 모습 RTP 공정은 halogen lamp를 사용하여 기존 furnace 공정보다 빠른 승온 ramp-up rate 조절을 통해 전체적인 열확산 시간을 단축시킬 수 있습니다. 하지만 이온의 활성화가 고온과 공정 진행시간에 비례하므로 원하는 전기 저항을 얻기 위해서 furnace annealing 대비 고온의 공정으로 진행합니다! furnace: 낮은 온도, 긴 시...

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