[반도체 기술] 노광 (Photo-Lithography) 공정

이번 시간에는 반도체 기술 중 노광 공정에 대해 간단히 설명을 해 보도록 하겠습니다. 최근 7nm 공정 도입 여부에 관심이 많은데, 이를 위해서는 EUV 공정이 필수로 생각되고 있습니다. 이에 관련 내용을 정리해 보도록 하겠습니다. 1. 노광 (Photo-Lithography) 공정이란? 웨이퍼 위에 반도체의 회로 패턴을 그려 넣는 공정으로 패턴을 그리는 데 '빛'을 사용하는 공정임 패턴을 그리는 '빛의 두께'가 얇을 수록 더 세밀한 선(패턴)을 그릴 수 있으며, 이를 위해서는 광원의 파장이 짧아져야 함 즉, '빛을 이용한 기판 인쇄술'이라 할 수 있음 이 공정은 빛이 중요하므로 빛의 종류로 공정을 표현할 수 있는데, 대표적으로 DUV, EUV 공정이 있음 2. DUV 공정 (Deep Ultra-Violet) - 파장이 300nm 이하인 빛을 의미하며 해당 광원을 이용한 공정 지칭 현재 반도체 양산에 가장 많이 사용되는 공정 방식이며, 주로 7nm 이상의 패턴을 그리는 데 사용하고 ...

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