SPTA 공정실습 반도체 소자 제작 및 특성분석(심화) 후기 - ⑤ Gate photolithography


SPTA 공정실습 반도체 소자 제작 및 특성분석(심화) 후기 - ⑤ Gate photolithography

<포스팅이 순서대로 진행되기 때문에 앞선 포스팅을 아직 못 보신 분들은 앞선 포스팅을 먼저 봐주세요!> 자, 저번 포스팅에서 Gate의 필수 불가결 요소인 MOS Layer를 올렸습니다. 하지만 Layer만 있으면 무슨 의미가 있나요? Photolithography 공정을 통해 Gate structure를 만들어줘야 합니다. Channel 영역을 3면에서 둘러싸는 FinFET 구조를 만들어야 하기 때문에 채널을 기준으로 앞뒤 여유 공간이 있는 MASK를 사용해야 합니다. Gate photolithography가 끝나면 위와 같은 구조를 갖게 됩니다. Active layer가 화면의 앞뒤로 길게 위치하고 있고, 그 중간에 MOS 구조가 올라가서 Channel의 폭을 구성하게 됩니다. 이번 포스팅부터는 광학현미경을 통한 Inspection으로, 단면도가 아닌 위에서 바라본 이미지가 나올 예정입니다. 이해하시는데 참고해 주세요 ㅎㅎ Singe - PR coating - Exposure -...


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