Photolithography - 2

이번 포스팅에는 노광공정의 주요 파라미터인 DOF와 Resolution을 다뤄보도록 하자. 1.Resolution 흔히들 분해능이나 해상력이라고 표현하며, 수치가 작을수록 저 미세한 패턴을 선명하게 새겨넣을 수 있다. 일반적으로 Critical Dimension (CD) 가 낮을수록 좋다고 하며, CD는 이론상으로 만들 수 있는 가장 작은 Size의 선폭을 의미한다. 로 나타낼 수 있으며, k1 공정상수 : 공정이 복잡할수록 수치가 올라감 ( 보통 0.25 ~ 1 의 수치를 가진다) λ : 조사해주는 빛의 파장 NA : 개구율 로 정의된다. 미세패턴을 형성시키기 위해 삼성전자와 하이닉스가 EUV와 같은 단파장의 빛을 사용하는 설비를 확보하려는 이유가 여기에 있다. 빛의 파장이..........

Photolithography - 2에 대한 요약내용입니다.

자세한 내용은 아래에 원문링크를 확인해주시기 바랍니다.

원문링크 : Photolithography - 2