반도체 공정 16.5강(Nanoimprint Lithography)

빛을 통해 소재에 패턴을 새겨 깎아내는 방식은 현재 가장 미세한 기계기술입니다. 하지만 생산 비용이 높고 빛의 파장에 의한 왜곡 현상이 나타나는 문제가 있습니다. 더욱이 유연한 기판에는 적합하지 않아 차세대 기술인 웨어러블 디바이스를 만들 수 없습니다. 그래서 정밀도가 매우 높으면서도 호환성과 생산성이 우수하고 경제적인 나노 제조기술이 절실했습니다. 이 때 등장한 것이 바로 나노 임프린트(Nano-imprint) 기술입니다. 이는 마치 도장(Stamp)을 찍듯이 나노 패턴이 새겨진 스탬프 위로 자외선에 의해 굳는 레진을 코팅해 원하는 패턴을 얻는 기술로, 노광 공정을 대체하기 위해 개발되었습니다. 한 번에 대면적으로 패턴을 한 번에 찍어낼 수 있고, 유연한 필름 형태의 기판 소재에도 적용할 수 있다는 장점이 있습니다. 임프린트 방식으로 노광 공정 대비 비용을 무려 10배 절감할 수 있다는 보도도 있습니다. 정신영, 이영준, 강진현, 유제민, 서울대학교 실리콘 웨이퍼 위에 폴리머를 코...

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