Etching - wet etching / ~ing

Wet etching이란 단어 그대로 용액을 사용하여 Etching하는 공정이다. 이떄 식각물질과 비식각물질의 반응성 차이를 이용하여 원하는 물질만 식각할 수 있다. 다시말해 용액과 식각물질은 화학반응속도가 매우 빠르며, 용액과 비식각물질은 화학반응속도가 매우 느린 점을 이용하는 것이다. 이를 통해 Etching이후에 일반적으로 High selectivity, isotropic한 구조가 형성된다.1.Etching 공정의 목적- patterning원하는 성능을 가진 IC칩 설계를 위해 Photo 공정 간 pattern을 하부층에 새기기 위함이다.- cleaning공정 사이클 간 불순물을 제거하기 위함이다.2.식각물질에 따른 Etchant의 종류1.SiO2 식각-Photo공정 이후 PR아래층을 Patte..........

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