CVD의 경우 precursor가 중요하다. precursor란 우리가 원하는 특성을 가지는 film의 기본 블록이 되는 물질 (즉 공정에서 원하는 물질의 기본 블록이 되는 물질을 의미한다.) 간단히 말해 주입gas다.why? CVD는 Chemical Vapor Deposition이다. 즉 Vapor상태로 chamber로 들어가야 한다. 그런데 증기압이 낮다면 Vaporization이 일어날 수 있겠는가? 노노 따라서 추가설비가 필요하다. (+ 반대로 말하면, 높은 증기압을 갖는 precursor의 경우 precursor delivery system이 필요없다.)낮은 증기압을 가진 precursor의 경우에 쓰이는 delivery system을 소개하겠다.1.Bubbler system: 가장 자주 쓰이는 설비이다.liquid 형태의 precursor에..........
원문링크 : CVD - precursor delivery system
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