Deposition - PVD

Deposition 은 크게 PVD와 CVD로 나뉜다. 오늘은 PVD에 대해서 알아보자. PVD는 Physical Vapor Deposition 의 약자로 이름 그대로 물리적인 방법으로 막이 쌓이는 증착공정이다. PVD의 가장 대표적인 특징은 화학반응을 사용하지 않기 때문에 다양한 물질을 제약없이 증착 가능하다는 점이다. 주로 금속물질을 쌓을때 사용하는데, 그 이유는 나중에 CVD 할때 알아보도록 하자. PVD의 대표적인 예로 Evaporation과 Sputtering을 들 수 있다. Evaporation은 증착시킬 진공 챔버 내부에서 물질에 열을 가해 증발시키는 원리를 사용한다. 증발된 물질이 기판에 닿으면 온도차이로 인해 맺히게되는데, 이러한 현상을 이용한다. 열을 가해줄때 저항열..........

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