[반도체 기업공부] EUV용 포토 레지스트, PR Strip, 뉴 하드마스크(NHN), CVD 진공펌프 관련주 (동진쎄미켐, 피에스케이, 엘오티베큠)

- 동진쎄미켐 : EUV용 포토 레지스트 개발 - 피에스케이 : PR Strip 세계 1위 기업 및 뉴 하드다스크(NHN), 건식 세정장비 공급 - 엘오티베큠: 진공 펌프(CVD 주요 사용) 제품 개발 1. EUV 기술과 삼성전자, SK 하이닉스의 활용 - EUV는 미세공정 공정수를 줄이고 회로를 미세하게 그릴 수 있는 기술이다. - 삼성과 하이닉스는 이미 EUV를 사용하고 있으며, 삼성은 파운드리도 진행하고 있다. 2. 포토레지스트(PR)의 역할과 사용량 - 포토레지스트는 전자재료의 핵심 소재로 사용되며, 디스플레이 산업에서 주로 사용된다. - 포토레지스트는 웨이퍼에 발라져서 빛을 받아들여 그림을 그리는 역할을 한다. - 포토레지스트는 파장에 따라 KrF와 ArF로 나뉘며, 각각 다른 광원과 붓의 두께를 가진다. - 포토레지스트의 사용량은 단수의 증가와 공정수의 증가에 따라 증가한다. - 유기물 포토레지스트는 DRAM과 파운드리에 사용되며, 비중은 알려지지 않았지만 2020년 기준...

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