저번 포스팅까지 Dophant activation을 시키기 위한 여러가지 방법(Annealing & Solid state epitaxy)을 배웠습니다. 이번 포스팅부터는 Annealing을 어떻게 진행해야 하는지, Annealing에서 고려해야 하는 대표적인 현상인 Transient Enhancement of Dophant Diffusion(TED)와 Anomalous behavior of activation에 대해 알아보겠습니다. 1. Anomalous behavior of activation SILICON VLSI TECHNOLOGY, J. D. Plummer, M. D. Deal, P. B. Griffin Annealing을 하고 봤더니 온도를 높일 수록 Annealing 효과가 상승할 줄 알았는데, 중간에 온도를 올렸을 때 거꾸로 Activation이 떨어지는 현상이 발생했습니다. 이 현상을 Anomalous behavior라고 합니다. 위 그래프는 Boron을 도핑했을 때 ...
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원문링크 : 반도체 공정 35장(TED & Anomalous behavior of activation)
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