HKMG의 필요성 - High-K material을 중점으로


HKMG의 필요성 - High-K material을 중점으로

High-K material의 필요성High-K material의 조건1.Energy band-gap & Band offset (CBO, VBO)2.Dielectric constant3.interface property->Solution: interlayer 도입4.Thermodynamic Stability (Reliability)High-K material의 장점*참고자료Gate Stack High-κ Materials for Si-Based MOSFETs Past, Present, and Futures // M. H. Shahrokhabadihttp://www.appliedmaterials.com/products/centura-integrated-gate-stack...

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