Wafer의 온도는 Wafer 위에서 발생하는 반응을 결정한다. 따라서 Wafer 온도제어는 매우 중요하다.(Wafer 온도가 미치는 영향 : reaction rate, selectivity, profile, PR Burning, CD)Chucking은 Wafer의 온도 제어할 수 있다. How?He Gas를 이용한다.위의 그림을 보면 Chuck 과 wafer 사이에 빈 공간이 보인다. 해당 공간으로 냉매역할을 하는 He이 Wafer를 Chilling시킨다. 자세한 내용은..... 추후 공개하겠다....
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