반도체 전공정 ② - 3. Oxidation 공정 - Deal-Grove model, 성장 초기/말기속도, Massaoud model

https://blog.naver.com/dlsgur5585/222563585307 반도체 전공정 ② - 2. Oxidation 공정 - SiO2 성장 방식(Wet, Dry), Furnace, RTP, 두께 측정 장비(a-step, Elipsometer 등) https://blog.naver.com/dlsgur5585/222559773759 이어서 계속됩니다. "Oxide들은 어떻게 생성이 될... blog.naver.com 이어서 계속됩니다. 모든 열산화막의 성장은 크게 Diffusion과 Reaction 반응으로 나뉘어집니다. 이 과정을 공학적으로 증명한 모델이 바로 Deal-Grove model입니다. 이 모델을 통해서 SiO2의 성장 운동론에 대해 알 수 있습니다. ※상당히 자세하게 다룰 예정입니다. "Deal-Grove Model" Deal-Grove Model 위 그래프에 대해서 먼저 설명하겠습니다. Deal - Grove 모델은 시간에 따라 두께 변화를 설명할 수 있는 ...

원문링크 : 반도체 전공정 ② - 3. Oxidation 공정 - Deal-Grove model, 성장 초기/말기속도, Massaoud model